近日，物理學院王友年老師課題組張權治副教授本人和其指導學生完成的兩篇科研工作“Modulation of uniform magnetic field on electron dynamics in low-pressure capacitively coupled plasmas”（第一作者為其一年級碩士研究生郭宇晴，導師張權治為通訊作者）和“Positive and negative streamer propagation in volume dielectric barrier discharges with planar and porous electrodes” 被等離子體權威期刊《Plasma Processes and Polymers》選為封面論文。
第一篇工作是針對磁化射頻容性耦合等離子體源（CCP）的研究內容。為了有效提高等離子體密度，改善傳統(tǒng)CCP的刻蝕效果，近年來磁化CCP引起了廣泛關注。研究發(fā)現隨磁場增加，放電會由非局域向局域模式轉化，這個轉化臨界點是當回旋頻率與射頻頻率比值為2.06，該比值可以作為衡量等離子體動力學特性發(fā)生改變的判據。
第二篇工作是針對大氣壓流注放電和其與介質孔的相互作用的研究內容。研究闡明了正、負流注的傳播機制，并發(fā)現正、負流注在與介質孔作用時表現出完全不同的特性。正流注可以懸浮在介質表面并向前傳播，而負流注則是緊貼著介質表面向前演化。這些內容對于理解等離子體催化過程中的微觀機制具有重要參考意義。
《Plasma Processes and Polymers》專注于低溫等離子體科學的跨學科領域，涵蓋等離子體源和等離子體處理領域的材料科學、物理、化學和工程基礎以及應用研究的實驗和理論方面的科學發(fā)現，其刊文質量得到了相關各領域的高度認可。期刊影響因子IF=3.872，在國際Journal Citation Reports（Rank by Journal Impact Factor）分區(qū)中的PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS小類里為Q1分區(qū)。
